Vörulýsing
Fyrirtækið okkar veitir SiC húðunarferlisþjónustu með CVD aðferð á yfirborði grafíts, keramik og annarra efna, þannig að sérstakar lofttegundir sem innihalda kolefni og kísil hvarfast við háan hita til að fá mikla hreinleika SiC sameindir, sameindir sem eru settar á yfirborð húðuðu efnanna, myndar SIC hlífðarlag.
Helstu eiginleikar:
1. Oxunarþol við háan hita:
oxunarþolið er enn mjög gott þegar hitastigið er allt að 1600 C.
2. Hár hreinleiki: gert með efnagufuútfellingu við háhita klórunarskilyrði.
3. Rofþol: mikil hörku, samningur yfirborð, fínar agnir.
4. Tæringarþol: sýra, basa, salt og lífræn hvarfefni.
1111111斯蒂芬森
11111111111111111
11111111111111111
11111111111111111
11111111111111111
Helstu upplýsingar um CVD-SIC húðun
SiC-CVD eiginleikar | ||
Kristal uppbygging | FCC β fasi | |
Þéttleiki | g/cm ³ | 3.21 |
hörku | Vickers hörku | 2500 |
Kornastærð | μm | 2~10 |
Efnafræðilegur hreinleiki | % | 99.99995 |
Hitageta | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
Sublimation Hitastig | ℃ | 2700 |
Felexural styrkur | MPa (RT 4 punkta) | 415 |
Young's Modulus | GPA (4pt beygja, 1300 ℃) | 430 |
Varmaþensla (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Varmaleiðni | (W/mK) | 300 |