PART/1CVD (Chemical Vapor Deposition) aðferð: Við 900-2300 ℃, með TaCl5 og CnHm sem tantal og kolefnisgjafa, H₂ sem afoxandi andrúmsloft, Ar₂as burðargas, hvarfútfellingarfilmu.Undirbúna húðunin er samningur, einsleitur og hár hreinleiki.Hins vegar eru nokkur vandamál...
Lestu meira