Lýsing
Fyrirtækið okkar veitir SiC húðunarferlisþjónustu með CVD aðferð á yfirborði grafíts, keramik og annarra efna, þannig að sérstakar lofttegundir sem innihalda kolefni og sílikon hvarfast við háan hita til að fá mikla hreinleika SiC sameindir, sameindir sem eru settar á yfirborð húðuðu efnanna, myndar SIC hlífðarlag.
Aðalatriði
1. Oxunarþol við háan hita: oxunarþolið er enn mjög gott þegar hitastigið er allt að 1600 C.
2. Hár hreinleiki: gert með efnagufuútfellingu við háhita klórunarskilyrði.
3. Rofþol: mikil hörku, samningur yfirborð, fínar agnir.
4. Tæringarþol: sýra, basa, salt og lífræn hvarfefni.
Helstu upplýsingar um CVD-SIC húðun
| SiC-CVD eiginleikar | ||
| Kristal uppbygging | FCC β fasi | |
| Þéttleiki | g/cm ³ | 3.21 |
| hörku | Vickers hörku | 2500 |
| Kornastærð | μm | 2~10 |
| Efnafræðilegur hreinleiki | % | 99.99995 |
| Hitageta | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimation Hitastig | ℃ | 2700 |
| Felexural styrkur | MPa (RT 4 punkta) | 415 |
| Young's Modulus | GPA (4pt beygja, 1300 ℃) | 430 |
| Varmaþensla (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Varmaleiðni | (W/mK) | 300 |
